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12V1000A可調(diào)雙脈沖電鍍電源整流器

詳細(xì)信息
品牌:KDL 規(guī)格:立式/臺(tái)式 產(chǎn)地:成都

電鍍電源的組成

  主電路主要包括主變壓器、功率整流器件和一些檢測(cè)、保護(hù)裝置等。電鍍電源中的主變壓器是將交流電源電壓降低為電鍍工藝所需要的電壓值。晶閘管整流器中使用的是工頻(50Hz)變壓器,高頻開(kāi)關(guān)電源中使用的是高頻(1050kHz)變壓器。檢測(cè)裝置包括電壓表、電流互感器等。保護(hù)裝置主要是用于功率整流器件的過(guò)流保護(hù)。

控制電路主要包括晶閘管或IGBT等的觸發(fā)控制電路,電源的軟啟動(dòng)電路,過(guò)流、過(guò)壓保護(hù)電路,電源缺相保護(hù)電路等。

電鍍電源-概述

  適用于電鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍鉻、鍍銅、鍍鎘等有色金屬;鍍金、鍍銀等貴重金屬的精密電鍍。

  1、降低孔隙率,晶核的形成速度大于成長(zhǎng)速度,促使晶核細(xì)化。

  2、改善結(jié)合力,使鈍化膜擊穿,有利于基體與鍍層之間牢固的結(jié)合。

  3、 改善覆蓋能力和分散能力,高的陰極負(fù)電位使普通電鍍中鈍化的部位也能沉積,減緩形態(tài)復(fù)雜零件的突出部位由于沉積離子過(guò)度消耗而帶來(lái)的燒焦”“樹(shù)枝狀沉積的缺陷,對(duì)于獲得一個(gè)給定特性鍍層(如顏色、無(wú)孔隙等)的厚度可減少到原來(lái)1/3~1/2,節(jié)省原材料。

  4、降低鍍層的內(nèi)應(yīng)力,改善晶格缺陷、雜質(zhì)、空洞、瘤子等,容易得到無(wú)裂紋的鍍層,減少添加劑。

  5、有利于獲得成份穩(wěn)定的合金鍍層。

  6、改善陽(yáng)極的溶解,不需陽(yáng)極活化劑。

  7、改進(jìn)鍍層的機(jī)械物理性能,如提高密度降低表面電阻和體電阻,提高韌性、耐磨性、抗蝕性而且可以控制鍍層硬度。

  傳統(tǒng)的電鍍抑制副作用的產(chǎn)生、改善電流分布、調(diào)節(jié)液相傳質(zhì)過(guò)程、控制結(jié)晶取向顯得毫無(wú)作用,面對(duì)絡(luò)合劑和添加劑的研究成了電鍍工藝研究的主要方向。納米開(kāi)關(guān)電源解決了傳統(tǒng)整流器存在的缺陷。

  8、提高產(chǎn)品成品率、產(chǎn)品質(zhì)量。

如何選擇電鍍電源?

  選擇電鍍電源有三個(gè)要求:第一,要符合電鍍工藝所要求的規(guī)范,包括電源的功率大小、波形指標(biāo)、電流電壓值可調(diào)范圍等;第二,是電源本身的可靠性能,這主要是指結(jié)構(gòu)的合理性、性以及線(xiàn)路特點(diǎn)、冷卻方式等;第三,要考慮其價(jià)格的性?xún)r(jià)比。

  確定一個(gè)鍍種及其所有的鍍槽要配置多大的和什么樣的電源是實(shí)施電鍍生產(chǎn)的重要工作。實(shí)際生產(chǎn)當(dāng)中確定確定電鍍電源有兩種方法:一種要根據(jù)鍍液容量來(lái)確定的體積電流密度法;另一種是按受鍍面積來(lái)計(jì)算的單位面積電流密度法。

  所謂體積電流密度,就是根據(jù)每升鍍液鍍液允許通過(guò)的大電流來(lái)調(diào)整整個(gè)鍍槽需要通過(guò)的電流強(qiáng)度,從而確定所要用的電源大和常規(guī)輸出的功率。鍍銅一般是0.20.3A/L,鍍鎳0.12.5A/L,光亮鍍鎳是0.30.35A/L,酸性鍍鋅0.50.6A/L,堿性鍍鋅可達(dá)1.2A/L,鍍鉻是23A/L。以鍍亮鎳為例,600L的鍍液大工藝電流可達(dá)0.6A/L×600L=180A,這樣選用200A的電源即可。

  根據(jù)受鍍面積也可以計(jì)算出大電流。以鍍鉻為例,如果是600L的鍍液,在60℃時(shí),允許的大電流密度為100A/dm,設(shè)鍍槽滿(mǎn)載時(shí)可以鍍10dm,則所需要的電源大輸出電流為100A/dm×10dm2=1000A,也就是要配置1000A、18V的整流電源。

  在確定了電源的功率大小以后。還要根據(jù)電鍍工藝的需要和電鍍現(xiàn)場(chǎng)的條件來(lái)選擇電鍍電源的波形、冷卻方式、體積大小和防腐蝕能力等,包括成本因素綜合僅以平衡。

電鍍電源-特點(diǎn)

  1、體積小、重量輕:

  體積與重量為可控硅電鍍電源的1/5-1/10,便于您規(guī)劃、擴(kuò)建、移動(dòng)、維護(hù)和安裝。

  2、節(jié)能效果好:

  開(kāi)關(guān)電源由于采用了高頻變壓器,轉(zhuǎn)換效率大大提高,正常情況下較可控硅設(shè)備提率10%以上,負(fù)載率達(dá)70%以下時(shí)較可控硅設(shè)備提率30%以上。

  3、輸出穩(wěn)定性高:

  由于系統(tǒng)反應(yīng)速度快(微秒級(jí)),對(duì)于網(wǎng)電及負(fù)載變化具有的適應(yīng)性,輸出精度可優(yōu)于1%。開(kāi)關(guān)電源的工作效率高、所以控制精度高,有利于提高產(chǎn)品質(zhì)量。

  4、輸出波形易于調(diào)制:

  由于工作頻率高,其輸出波形調(diào)整相對(duì)處理成本較低,可以較方便的按照用戶(hù)工藝要求改變輸出波形。這樣對(duì)于工作現(xiàn)場(chǎng)提高工效,改善加工產(chǎn)品質(zhì)量有較強(qiáng)作用。


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